用于10
發明名稱 】 用于10-8PA超高真空圓形平面磁控濺射靶的密封裝置
【 文 摘 】 本發明公開了一種用于10-8Pa超高真空圓形平面磁控濺射靶的密封裝置。它的水冷腔（3）內置有軟鐵（5）和磁鋼（4）、下端面與水冷腔密封法蘭（17）上端面間置有O形金屬密封圈（7），并經螺絲（22）相固定，進出水管（20，19）分別于軟鐵（5）和水冷腔密封法蘭（17）相焊接，水冷腔密封法蘭（17）的下端面與靶支撐座（15）上端面間置有電極絕緣層（13）和兩組四只O形密封圈（8，9，10，11），并經靶支撐座（15）中套裝的出水管（19）另一端上的緊固螺母（18）相抵壓連接，每組O形密封圈間均置有與抽氣管（16）相通的通孔（12，14），靶支撐座（15）上焊接有安裝法蘭（21）。它的真空度高達6×10-8Pa，可實現高質量高純度金屬或非金屬薄膜的制備。
【 文 摘 】 本發明公開了一種用于10-8Pa超高真空圓形平面磁控濺射靶的密封裝置。它的水冷腔（3）內置有軟鐵（5）和磁鋼（4）、下端面與水冷腔密封法蘭（17）上端面間置有O形金屬密封圈（7），并經螺絲（22）相固定，進出水管（20，19）分別于軟鐵（5）和水冷腔密封法蘭（17）相焊接，水冷腔密封法蘭（17）的下端面與靶支撐座（15）上端面間置有電極絕緣層（13）和兩組四只O形密封圈（8，9，10，11），并經靶支撐座（15）中套裝的出水管（19）另一端上的緊固螺母（18）相抵壓連接，每組O形密封圈間均置有與抽氣管（16）相通的通孔（12，14），靶支撐座（15）上焊接有安裝法蘭（21）。它的真空度高達6×10-8Pa，可實現高質量高純度金屬或非金屬薄膜的制備。
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